专利名称：处理装置及光学膜材的形成方法专利类型：发明专利
发明人：苏丘容,苏意茹,颜稚皓,颜名辉申请号：CN202011442418.X申请日：20201208公开号：CN112793194A公开日：20210514
摘要：本揭露提供了一种处理装置及光学膜材的形成方法。处理装置包含一光学膜处理槽、一导液结构以及一溢流装置。光学膜处理槽配置以容置一处理液。溢流装置用于处理装置，以控制其中的处理液的流向，包括盒体部、引流板以及排水管。排水管连接于盒体部。引流板可动地配置于盒体部的至少一侧上，以随处理液的液面调整高度，使处理液导引至盒体部内。导液结构设置于溢流装置之内，且溢流装置是设置于光学膜处理槽之内。
申请人：住华科技股份有限公司
地址：中国台湾台南市善化区环东路2段32号
国籍：CN
代理机构：北京律诚同业知识产权代理有限公司
代理人：徐金国
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