（12）发明专利申请
（21）申请号 CN201610988388.X （22）申请日 2016.11.10
（71）申请人 TCL集团股份有限公司
地址 516006 广东省惠州市仲恺高新技术开发区十九号小区
（10）申请公布号 CN106566529A
（43）申请公布日 2017.04.19
（72）发明人 程陆玲;杨一行
（74）专利代理机构 深圳中一专利商标事务所
代理人 黄志云
（51）Int.CI
C09K11/02; C09K11/88; B82Y20/00; B82Y30/00; B82Y40/00;
权利要求说明书 说明书 幅图
（54）发明名称
钝化量子点及其制备方法
（57）摘要
本发明提供了一种钝化量子点，包括量子
点和包裹在所述量子点表面的钝化层，且所述钝化层为卤素离子与所述量子点表面的阳离子经化
学反应形成的无机化合物薄膜层。所述钝化量子点的制备方法，包括以下步骤：提供阳离子前驱体、阴离子前驱体，制备量子点；制备卤素气体，将所述卤素气体溶解在真空或惰性气体保护的有机溶剂中，制备卤素储备液；将所述量子点溶解形成量子点溶液，在所述量子点溶液中加入所述卤素储备液形成反应体系，搅拌反应，纯化处理后得到钝化量子点。
法律状态
法律状态公告日
2017-04-19 2017-04-19 2018-01-09
法律状态信息
公开 公开
实质审查的生效
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权利要求说明书
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说明书
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