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SI9000常规阻抗计算
常规信号分为微带线和带状线,微带线指该信号线只有一个参考平面〔表底层〕,带状线指该信号线在两个参考平面之间〔内层〕,故阻抗计算需要选择不同模型来完成。
一、 外层〔微带线〕单端阻抗计算模型
1.单端阻抗构造——>2.单端阻抗模型——>3.设置相应参数
说明:介电常数和板材有关,常规FR4介电常数在4.2-4.5之间,常规半固化片介电常数106〔3.9〕、1080〔4.2〕、2116〔4.2〕、7628〔4.5〕,罗杰斯板材RO4350B介电常数是3.66,M6板材介电常数在3.3-3.5之间。
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二、外层〔微带线〕差分阻抗计算模型
1.差分阻抗构造——>2.差分阻抗模型——>3.设置相应参数 说明:常规差分控制阻抗100ohm,USB控90ohm,Typec控90ohm
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以下是1.6mm板厚常规八层板的层叠 1. 3个信号层、2个地、一个电源 2.射频隔层参考,线宽16mil
3.关键信号在S1层,注意S2跨分割问题,适用于杂线多的情况
A.根据微带线单端模型50ohm阻抗计算如下〔线宽6〕:
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B.根据微带线差分模型阻抗计算如下:
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三、内层〔带状线〕单端阻抗计算模型
1.单端阻抗构造——>2.单端阻抗模型——>3.设置相应参数
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四、内层〔带状线〕差分阻抗计算模型
1.差分阻抗构造——>2.差分阻抗模型——>3.设置相应参数
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根据常规8层板层叠计算内层阻抗. A.内层单端阻抗模型: S1:H1=16+1.2+4.3=21.5
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H2=1.2+4.3=5.5
S1层50ohm:5mil〔说明:阻抗允许误差正负10%,H1和H2数值〕
S1和S2参考层面厚度相差较小阻抗线宽一致〔说明:如果H1和H2数值正确,H1和H2即使颠倒,阻抗变化很小〕 S2:H1=4.3
H2=1.2+16+1.2+4.3=22.7
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S2层50ohm:5mil
S3:H1=4.3
H2=1.2+16=17.2 S3层50ohm:5mil
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B.内层差分阻抗模型〔介质厚度和单端阻抗一致〕: S1:H1=16+1.2+4.3=21.5
H2=1.2+4.3=5.5 S2:H1=4.3
H2=1.2+16+1.2+4.3=22.7
S3:H1=4.3
H2=1.2+16=17.2
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S1、S2、S3:90ohm
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S1、S2、S3:100ohm同理计算,概不赘述。
〔关于射频线阻抗计算隔层参考,共面阻抗计算参考 叠层厚度通常由单板实际情况决定,如果叠层确定,线宽变小,阻抗变大,差分阻抗线之间的间距变大,阻抗变大,差分100ohm计算时,可通过改变线宽和间距实现〔注意:建议差分间距不要大于2倍线宽如4的线宽8的间距〕。单端阻抗主要依靠改变线宽实现。层叠厚度和阻抗反比,距离主要参考层面越远阻抗越大。合理的层叠〔参 - .word.zl. - . 考<常规层叠规那么及选用方法>〕,是计算阻抗的必要条件,有些层叠计算不出来需求阻抗。通常我们提供应制板厂的层叠和线宽,生产制造时会进展微调,为区别单线和差分阻抗给DFM工程师调整阻抗提供便利,要求同一层面的不同阻抗线线宽不同,即单线50ohm、差分85ohm、差分90ohm、差分100ohm要求不同的线宽。 阻抗存在争议: 以上内层算法是SI6000时就存在的模型计算,SI9000在SI6000的根底上又推出新的模型,但是存在争议关于内层H1和H2的厚度。 关于H1和H2存在争议: a.一些工程师使用SI9000推出的新模型 SI9000推出的新模型,此模型忽略内 层铜箔的厚度,仅仅是pp和core的厚度。〔个人认为不太合理,内层1oz的铜箔1.2mil的厚度加上还是有必要的〕。 b.一些工程师使用SI9000中SI6000的模型,但认为H1是信号距离参考平面近的pp或core的厚度,H2是距离参考平面远的厚度。 c.还有一些工程师,使用SI9000中SI6000的模型,直观的根据模型图提供的信息,判断H1和H2的厚度。 b、c虽然存在局部差异,但是计算的阻抗偏差几乎可以忽略不计。 本文是使用c方法判断H1和H2的厚度,采用原始模型。 - .word.zl. - . - .word.zl.
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