专利名称:掩膜版和蒸镀装置专利类型:发明专利
发明人:付佳,李金库,李文星,范柳彬,刘玉轩,姜正文申请号:CN202010750105.4申请日:20200730公开号:CN111850466A公开日:20201030
摘要:本发明实施例提供一种掩膜版和蒸镀装置。本申请实施例提供的掩膜版,掩膜版本体,包括图案蒸镀区,所述图案蒸镀区内设置有多个蒸镀开口;抗拉膨胀部,在所述图案蒸镀区周侧分布,在垂直于拉应力方向上所述抗拉膨胀部的形变方向与所述掩膜版本体的形变方向相反,所述抗拉膨胀部与所述掩膜版本体间存在相互作用力。本申请实施例提供的掩膜版通过抗拉膨胀部的设置避免在张网过程中褶皱的形成,提高掩膜版与显示基板贴合时的相对位置精度,避免蒸镀后显示面板点亮时出现局部Mura及明显的条纹,提高显示效果。
申请人:昆山国显光电有限公司
地址:215300 江苏省苏州市昆山市开发区龙腾路1号4幢
国籍:CN
代理机构:北京东方亿思知识产权代理有限责任公司
代理人:娜拉
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