专利名称：多通道集成滤光片光隔离结构的制造方法专利类型：发明专利发明人：周东平
申请号：CN201810087211.1申请日：20180130公开号：CN108193171A公开日：20180622
摘要：本发明揭示了一种多通道集成滤光片光隔离结构的制造方法，对基片表面进行化学腐蚀处理，以形成粗糙的腐蚀处理面，再在腐蚀处理面上镀制黑铬金属膜层，在黑铬金属膜层上镀制消光层即得光隔离结构。本发明利用黑铬金属膜层满足光学透过性能低的要求，同时，利用由四层氧化物光学薄膜组成的消光层降低黑铬金属膜层的剩余反射率，再者，通过设置粗糙的腐蚀处理面，使得黑铬金属膜层具有漫反射特性，在各个方向都具有较低的剩余反射率，并使得黑铬金属膜层与基片结合得更牢固可靠；制得的光隔离结构可有效实现多通道集成滤光片各通道之间的隔离，保障多通道集成滤光片的工作性能，还具有使用寿命长的优点。
申请人：苏州晶鼎鑫光电科技有限公司
地址：215000 江苏省苏州市工业园区娄阳路6号中新科技工业坊三期2-1-B、2-2-B
国籍：CN
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