一种基于超薄低功函数金属的高透明度自封装顶发射电极及其制备方

来源：六九路网

专利内容由知识产权出版社提供

专利名称：一种基于超薄低功函数金属的高透明度自封装顶发

射电极及其制备方法

专利类型：发明专利

发明人：段羽,丁韬,刘云飞,普热梅斯拉夫·德塔,陈平申请号：CN201811265572.7申请日：20181029公开号：CN109473565A公开日：20190315

摘要：一种基于超薄低功函数金属的高透明度自封装顶发射电极及其制备方法，属于显示技术领域。为三层叠层结构：在透明的基底上，第一层为致密的传输层，第二层为通过蒸镀技术生长的较为平滑的超薄低功函数金属层，第三层则是一层致密的自封装层。由于钙、铯等低功函数金属的化学特性，将其作为超薄金属主体的透明电极尚没有应用先例。本专利采用叠层结构，通过在超薄的低功函数金属两侧沉积致密的透明导电薄膜(一侧为传输层，一层为自封装层)，成功制备出了以低功函数金属为主体的、带有自封装性能的高度透明顶发射电极。本发明采用对发光器件表面几乎无损伤的制备技术制备顶发射电极，极大地提高了低功函数金属电极的透过率。

申请人：吉林大学

地址：130012 吉林春市前进大街2699号

国籍：CN

代理机构：长春吉大专利代理有限责任公司

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