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一种具有缓冲层和共掺杂的低辐射玻璃及其制备方法[发明专利]

来源：六九路网

专利内容由知识产权出版社提供

专利名称：一种具有缓冲层和共掺杂的低辐射玻璃及其制备方

法

专利类型：发明专利

发明人：赵洪力,王立坤,郁建元,杨静凯,付晨,王丽,邱茹蒙,晏

伟静

申请号：CN201810758635.6申请日：20180711公开号：CN108751741A公开日：20181106

摘要：本发明公开了一种具有缓冲层和共掺杂的双层薄膜低辐射玻璃及其制备方法，采用气溶胶辅助化学气相沉积法在玻璃基板上预先制备一层金红石结构的锡掺杂的二氧化钛r‑TTO薄膜，再沉积一层氟、铌共掺杂的二氧化锡NFTO薄膜。本发明的低辐射玻璃具有辐射率极低、电阻率低和可见光区透过率高的特点，可用于Low‑E建筑节能玻璃等领域。该制备方法工艺简单，成本低，具有广阔的应用前景。

申请人：燕山大学

地址：066004 河北省秦皇岛市海港区河北大街西段438号

国籍：CN

代理机构：北京挺立专利事务所(普通合伙)

代理人：刘阳

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