电子半导体行业用水工艺流程介绍
半导体行业是一个高能耗的行业，在半导体产品制造过程中，由于生产设备的精密性和生产工艺的复杂性，对其配套设施提出了很高的要求，尤其对作为半导体行业血脉的超纯水系统更是高之又高。超纯水制造工艺中打破了传统的固定观念，将节能减排的理念充分应用到超纯水制造工艺中去。
半导体行业水质符合美国ASTM标准 (18MΩ*cm，15MΩ*cm，2MΩ*cm和0.5MΩ*cm四级)，其处理工艺有：
预处理-反渗透- 水箱-阳床-阴床-混合床-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制混床-精密过滤器-用水对象
预处理-一级反渗透-加药机(PH调节)-中间水箱-第二级反渗透(正电荷反渗膜)-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象
预处理-二级反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象
预处理-二级反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制混床-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象
技术资料由北京处理提供
因篇幅问题不能全部显示，请点此查看更多更全内容