常用晶体及光学玻璃折射率表
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常用晶体及光学玻璃折射率表 物质名称 熔凝石英 氯化钠 氯化钾 萤石 冕牌玻璃 分子式或符号 折射率 Si02 NaCl KC1 CaF: K6 K8 K9 ZK6 1. 45843 1. 427 1. 49044 1. 43381 1.51110 1. 51590 1. 51630 1. 61263 1.61400 1.53988 1. 60328 1. 62590 1. 752 1. 73977 1. 796 重冕玻璃 钞!冕玻璃 火石玻璃 钞!火石玻璃 重火石玻璃 ZK8 BaK2 Fl BaF8 ZF1 ZF5 ZF6 液体折射率表 物质名称 丙醇 甲 乙 苯 二硫化碳 四氯化碳 三氯中烷 乙醛 甘油 分子式 密度 温度°C 折射率 CH3COCH3 CH30H C:H50H CeHe 0. 791 0. 794 0. 800 1.880 1.263 1. 591 1. 4 0. 715 1.260 0.87 0. 92 20 20 20 20 20 20 20 20 20 20.7 0 20 1. 3593 1. 3290 1.3618 1.5012 1. 6276 1. 4607 1. 4467 1. 3538 1. 4730 1. 4721 1. 4763 1. 3330 CS2 CC1, CHCls C2H0 • 0 • C2H0 CsHsOs 松节油 橄榄油 水 H:0 熔点-61C,沸点 152・8°C,76°C (5. 2kPa),相对密度 0. 9445(25/4°C),闪点 58eC,自燃 点4450对多种有机化合物和无 机化合物均有良好的溶解能力和 化学稳定性。25°C的蒸气压为 0. 493kPa« 1.00 DMF 1. 4269 晶体的折射率n。和①表 物质名称 冰 氟化镁 石英 氯化镁 诰石 硫化锌 方解石 钙黃长石 菱镁矿 刚石 淡红银矿 分子式 H:0 MgF: SiO: MgO ・ H=0 ZrO:・ SiO: ZnS CaO • CO: 2CaO ・ A1A ・ SiO: ZnO • C0: A1A 3Ag:S • AS2S3 no 1.313 1.378 1.4 1.559 1.923 2. 356 1.658 1.669 1.700 1.768 2. 979 nc 1.309 1.390 1.553 1.580 1.968 2. 378 1.486 1.658 1.509 1.760 2.711 注:n。、m分别是晶体双折射现象中的“寻常光\"的折射率和“非 常光”的折射率。
资料来源:华东师大《光学教程》 |折光率 |色散 双折射率 真钻石 硬度 比重 |2. 42 |0. 044 jo. 060 “苏联钻” 2. 15 注:“苏联钻”,立方氧化诰钻石 无 10 8. 5 3. 52 5. 6—6 •般情况下,基础玻璃的折射率为1.5-1. 7,而斜诰石的折射率为2. 2,钻英石的折射率为1.94: SnO:可以降低釉 熔体的表面张力,且具有较高地折射率(2.09) CR-39即折射率1・499单体
有机高分子化学
日开发出新型热固性树脂
2004-7-28 9:04:29 来源:中国化工网
日前,日本Nitto Denko Corp公司开发出一种折射系数为1. 7的芳香族热固性树脂,高于折 射率1. 56的环氧树脂,且这种树脂的耐热性也比环氧树脂高30%。
该公司称,折射系数的提高是由于在其中添加了二氧化钛、二氧化钻及其它金属氧化物的纳 米级粒子。据介绍,这种树脂主要用途在电器领域,包括用于涂料中可提高白色发光二极管(LEDs) 的发光率和吸光率,液晶显示器(LCDs)和其它显示器的防反射膜,以及在电荷耦合器件(CCDs)中 作为微透镜使其能接受大量光等。
金红石型和锐钛矿型TiO?颜料的平均折射率分别为2. 71和2・57,用2・71来计算, 氧化锌颜料的相对密度为5. 45 ~ 5.65,吸油度量为10 ~ 25 g/100 g,折射率为2. 03 ~
2. 08 o
商业上98%颜料级硫化锌的相对密度为4. 0 4.1,折射率为2. 37
三氧化锦颜料的折射率约为2・0,
名称折射率透光范围蒸发温度(°C) 蒸发源 应用三氧化二
铝 1.62/550n 200^5000 2000-2200 电子 增透 膜 多层膜氟化肺 1.63/500nm 300^5000 1429钳,钳,电子 增透膜、多层膜氧 化肺 2.35/500nm 400^16000 1950 电子 增透膜 冰晶 石 l・33/500nm 250^14000 1000钳,电子 增透膜氧化
铅 1.95/500nm
导电膜料2. 0/500nm
230^7000 2500 电子
紫外-近红外多层膜 透明
400^800 1450电子,A1203透明导电膜氟化钙1.23-
1. 42/550nml50\"12000 1280^1400 ffl,磚 增透膜 氟化镁 1. 38/550nm 1300^1600钮,鹄 增透膜、多层膜 氧化镁1. 7/500nm 膜氧化铳1. /500nm 硅 1. 45/500nm 1. 55/550nm 2. l/500nm 2. 35/500nm
钛 2.35/500nm
130^7000
200^8000 2000 电
子
多层膜钳钛混合物2.
氧化钻 三氧化二钛
1. 87/550nm 2. 05/500nm 2. 35/500nm 1. 58/500nm 1500电子
,餌红外膜 锌 2. 4/1200nm
1000^9000
1700^23000 1300^1500 电子
电子红外膜硫化
1. 49/632. 8nm 1. 51/632. 8nm 1. 35/500nm 1. 76/470nm 1. 8/550nm
钛 2. 35/500nm
l/500nm 400^7000 2300鸽,电子增透 250^5000 2430电子
紫外多层膜二氧化 200^2000 1600^2200电子 多层膜一氧化硅
600^8000 1200^1600
钮,钳,磚 增透膜、保护膜 五氧化二钳
400^7000 1950电子 增透膜一氧化钛
400^12000 1700^2000电子 多层膜、分光膜二氧化 400^12000 2200电子 增透膜、多层膜 氧化锂 400^8000 2500电子 增透膜、多层膜 250^7000 2500电子 增透膜、多层膜
400^12000 1800^2000 fi,鹤电子增透膜、多层膜氟化铜 220^14000 1450钳,电子增透膜硅3. 4/3000nm
红外膜错4. 4/2000nm
硒化锌 2. 58/550nm 600^15000 600^900 钳,钮,
400^14000 1100钳,钮,电子多层膜 氟化锂
200^15000 1100钳红外膜(10.6mm)、增透膜氟化谱
220^15000 1400^1600钮,电子 红外膜(10. 6mm)、增透膜 氟化铝 200^8000 800^1000电子,钳,钳紫外膜氟化铅 220~9000 700^1000钮 紫外膜氧化札
320^15000 2200 增透膜五氧化三
400^12000 1750^2000
钛酸顿(BaTiO,)单晶具有优异的光折变性能具有高的自泵浦相位共辘反射率和二波混频(光放人)效率,在光 信息存储方面有巨人的潜在应用前景;同时它也是重要的衬底基片材料。
晶体参数:
晶体结构 生长方法 熔点 四方 Tetragona(4m): 13°C 因篇幅问题不能全部显示,请点此查看更多更全内容
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