专利名称：基片处理装置专利类型：发明专利
发明人：斉藤孝行,铃木作,槙田裕司,山田薫,白樫充彦,伊藤贤
也
申请号：CN02816766.X申请日：20020903公开号：CN17759A公开日：20041117
摘要：本发明涉及一种基片处理装置，包括一个用于支撑基片并使之转动的卡盘组件，一个其中放置有卡盘组件的可关闭的腔体，以及一个向腔体引入一种气体的气体引入装置。该基片处理装置还包括一个蚀刻部件，该蚀刻部件在卡盘组件使基片转动的同时蚀刻并清洁基片的周边部分，以及一个向蚀刻部件提供第一种液体的第一供给管道。
申请人：株式会社荏原制作所
地址：日本东京
国籍：JP
代理机构：永新专利商标代理有限公司
代理人：刘兴鹏
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