专利名称：化妆料专利类型：发明专利发明人：细川稔
申请号：CN200980121167.0申请日：20090304公开号：CN102046144A公开日：20110504
摘要：一种化妆料，其特征在于，含有：两性表面活性剂或阴离子性表面活性剂，以及(B)含有下述通式(1)所示的单体单元70～95摩尔％和下述通式(2)所示的单体单元5～30摩尔％作为结构单元的丙烯酸系聚合物，(A)/(B)所示的质量比为0.1～50.0。(式中，R表示氢原子或甲基，R表示氢原子或-CHOH基，A表示氧原子或-NH-、R表示氢原子或甲基，M表示氢原子、碱金属原子、铵或胺)。
申请人：狮王株式会社
地址：日本国东京都
国籍：JP
代理机构：上海市华诚律师事务所
代理人：侯莉
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