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低内应力的铜电镀方法

来源：六九路网

（19）中华人民共和国国家知识产权局

（12）发明专利申请

（21）申请号 CN201210461899.8 （22）申请日 2012.09.10

（71）申请人罗门哈斯电子材料有限公司

地址美国马萨诸塞州

（10）申请公布号 CN102995075A

（43）申请公布日 2013.03.27

（72）发明人 G·R·奥拉德伊斯;G·哈姆;N·卡拉亚（74）专利代理机构上海专利商标事务所有限公司

代理人江磊

（51）Int.CI

权利要求说明书说明书幅图

（54）发明名称

低内应力的铜电镀方法

（57）摘要

一种铜电镀方法，其提供了低内应力的铜

沉积物。铜电镀浴中促进剂的浓度随着电镀电流密度的改变而变化，并且观察到无光泽铜沉积物形式的低内应力的铜沉积物。

法律状态

法律状态公告日

2013-03-27 2013-04-24

公开

实质审查的生效

法律状态信息

公开

法律状态

实质审查的生效

法律状态公告日

2016-12-21

授权

法律状态信息

授权

法律状态

权利要求说明书

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说明书

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