一种宝莲灯栽培方法[发明专利]

(12)发明专利申请

(10)申请公布号 CN 106386133 A(43)申请公布日 2017.02.15

(21)申请号 201610829186.0(22)申请日 2016.09.18

(71)申请人 大顺国际花卉股份有限公司

地址 300300 天津市东丽区赤欢路6901号(72)发明人 杨秉祥　林雪　刘青　杨铁顺　

赵亮　(74)专利代理机构 天津滨海科纬知识产权代理

有限公司 12211

代理人 刘莹(51)Int.Cl.

A01G 1/00(2006.01)

权利要求书1页 说明书2页

(54)发明名称

一种宝莲灯栽培方法(57)摘要

本发明提供了一种宝莲灯栽培方法，将宝莲灯扦插苗，将20-10-20稀释800～1200倍液，每隔5-7天进行一次浇肥，做到见干见湿；EC值为0.8～1.2ms/cm；pH为4.5～5.5。本发明对宝莲灯的生长发育有明显的积极作用，尤其在对宝莲灯叶片生长上，提高了宝莲灯的观赏价值。

CN 106386133 ACN 106386133 A

权　利　要　求　书

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1.一种宝莲灯栽培方法，其特征在于：将宝莲灯扦插苗，将20-10-20稀释800～1200倍液，每隔5-7天进行一次浇肥，做到见干见湿；EC值为0.8～1.2ms/cm；pH为4.5～5.5。

2.根据权利要求1所述的宝莲灯栽培方法，其特征在于：试验期间光照不超过20000勒克斯，温度在15-24℃，环境通风良好。

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CN 106386133 A

说　明　书一种宝莲灯栽培方法

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技术领域[0001]本发明属于植物栽培方法领域，尤其是涉及一种宝莲灯栽培方法。

背景技术[0002]宝莲灯又名粉荀酸脚杆、美丁花，为野牡丹科酸脚杆属的多年生常绿灌木。株型茂盛，枝杈粗糙坚硬，原产在菲列宾、马来西亚等热带雨林，高1.5～2.5米。茎有四棱或四翅，分枝扁平。单叶对生，无柄，叶卵形或长圆形，灰绿色，革质有光，叶脉基出，叶主脉有明显的象牙白色凹陷。花序似风铃，花蕾抽出后先露粉红色苞片，花序上绽出珍珠状粉色小圆花，花型独特，花期超长，可达八九个月，自然花期2～8月，单株花期可持续数月，可实现终年开花。盆栽高不超过70厘米。高档花国庆至春节上市，为花卉中的贵族。大部分从欧洲进口，2004年开始从荷兰引进而国产化，不耐运输。但是目前的栽培技术，尤其是栽培营养液方面，不能满足宝莲灯的生产生长，致使一些叶片出现褶皱，从而影响观赏价值。发明内容[0003]有鉴于此，本发明旨在提出一种宝莲灯栽培方法，以满足宝莲灯的观赏价值。[0004]为达到上述目的，本发明的技术方案是这样实现的：[0005]一种宝莲灯栽培方法，将宝莲灯扦插苗，将20-10-20稀释800～1200倍液，每隔5-7天进行一次浇肥，做到见干见湿；EC值为0.8～1.2ms/cm；pH为4.5～5.5。[0006]优选的，试验期间光照不超过20000勒克斯，温度在15-24℃，环境通风良好。[0007]相对于现有技术，本发明的宝莲灯栽培方法，具有以下优势：对宝莲灯的生长发育有明显的积极作用，尤其在对宝莲灯叶片生长上，提高了宝莲灯的观赏价值。具体实施方式[0008]需要说明的是，在不冲突的情况下，本发明中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。[0009]本发明中的20-10-20指的是氮、磷、钾的百分含量。[0010]下面将结合实施例来详细说明本发明。[0011]发明分为发明组和对照组，每组选择宝莲灯扦插苗50盆，放置在相同环境中，定期对宝莲灯进行浇肥，发明组浇20-10-20的肥水，对照组浇宝莲灯专用肥，记录发明组与对照组浇肥后出现的现象。[0012]发明组：[0013]例1：进行上述操作后，将20-10-20稀释1000倍液，每隔5-7天进行一次浇肥，做到见干见湿，并记录好EC和pH，观察叶片生长情况。[0014]对照组1：进行上述操作后，将20-10-20稀释2000倍液，每隔5-7天进行一次浇肥，做到见干见湿，并记录好EC和pH，观察叶片生长情况。[0015]对照组2：

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CN 106386133 A[0016]

说　明　书

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进行上述操作后，将宝莲灯专用肥稀释1000倍液，每隔5-7天进行一次浇肥，做到

见干见湿，并记录好EC和pH，观察叶片生长情况。[0017]经过对比后，发现浇将20-10-20稀释1000倍液的肥水EC为1.0ms/cm左右，pH为5.0左右，对宝莲灯叶片作用最显著，其叶片的褶皱明细少于对照组1和对照组2，提高了宝莲灯的观赏价值。[0018]宝莲灯专用肥配方：晶体硝酸钙90.6kg、Fe-110.8kg、磷酸氢钾2.7kg、硫酸钾36kg、硝酸镁0.32kg、20-10-2080kg。[0019]以上所述仅为本发明创造的较佳实施例而已，并不用以限制本发明创造，凡在本发明创造的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明创造的保护范围之内。

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